液体中脉冲激光烧蚀 (PLAL) 是一种在溶液中生产金属纳米颗粒 (NP) 的可靠且通用的技术。其优点包括无需还原剂、操作简单、纯度高、无需纯化步骤以及环境处理条件，使其成为优于化学还原法等传统金属纳米颗粒制备方法的首选。 PLAL 在科学和工业研究领域的广泛采用证明了其实用性。然而，传统激光源的尺寸和维护成本给实验室，特别是那些不专门从事激光科学的实验室带来了巨大的挑战。

认识到这些障碍后，大阪大学教授 Hidehiro Sakurai、Yumi Yakiyama 及其团队将注意力转向了微芯片激光 (MCL) 系统。 MCL 由分子科学研究所 (IMS) 的 Taira 小组开发，是一种紧凑、低功耗的巨脉冲激光系统，腔长短于 10 毫米，非常适合标准有机合成实验室。这项工作发表在1 月 5 日的《工业化学与材料》杂志上 。

尽管具有尺寸优势，但 MCL 的规格(尤其是其小脉冲能量)对于金靶材 PLAL 的适用性尚不清楚。研究小组旨在了解仪器规格的差异如何影响 Au PLAL 的结果，目标是进一步促进台式合成和纳米颗粒直接应用于催化目的。

在他们的研究中，该团队利用 MCL 进行金的 PLAL，重点研究小激光脉冲能量 (0.5 mJ)、短脉冲持续时间 (0.9 ns) 和低重复率 (10 Hz) 对烧蚀效率的影响。结果表明，尽管与传统高功率激光器(25 mJ/脉冲，12 ns 持续时间，10 Hz)相比，MCL 的脉冲能量要小得多，但仍表现出相对较高的烧蚀效率。

“我们的研究为使用紧凑型 MCL 系统制备 Au NP 提供了新的见解。重要的是，它为在标准合成化学实验室内开发新的催化反应中直接使用 MCL 制备的高反应性纳米粒子开辟了途径，”Sakurai 强调。